Description du produit
La plaquette de silicium de 200 mm est également polyvalente dans ses applications, avec des applications en recherche et développement, ainsi que dans la fabrication en grand volume. Il peut être personnalisé selon vos spécifications exactes, avec des options pour des tranches fines ou épaisses, des surfaces polies ou non polies et d'autres fonctionnalités basées sur vos besoins spécifiques.
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Croissance |
CZ, MCZ, FZ |
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Grade |
Prime, Test, Factice, etc. |
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Diamètre |
8 pouces/200mm |
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Épaisseur |
200~3000um |
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Finition |
Comme coupé, rodé, gravé, SSP, DSP, etc. |
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Orientation |
(100) (111) (110) (531) (553) etc. |
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Coupé |
Jusqu'à 4 degrés |
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Type/Dopant |
P/B, N/Phos, N/As, N/Sb, intrinsèque |
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Résistivité |
CZ/MCZ : De 0,001 à 1 000 ohm-cm |
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FZ : jusqu’à 20 000 ohms-cm |
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Films minces |
* PVD : Al, Cu, Au, Cr, Si, Ni, Fe, Mo. etc., épaisseurs de revêtement jusqu'à 20, 000 Å / ± 5 % |
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* LPCVD/PECVD : Oxyde, Nitrure, SiC, etc., Épaisseurs de revêtement jusqu'à 200, 000 Å / ± 3 % |
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* Plaquettes épitaxiales de silicium et services épitaxiaux (SOS, GaN, GOI, etc.). |
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Processus |
DSP, ultra fin, ultra plat, etc. |
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Réduction des effectifs, broyage arrière, découpage en dés, etc. |
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MEMS |
Image du produit
Pourquoi nous choisir
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