Processus de préparation d'une plaquette de silicium

Le processus de préparation d’une plaquette de silicium comprend principalement les étapes suivantes :
Fusion du silicium : tout d’abord, du silicium d’une pureté extrêmement élevée est fondu à haute température pour former du silicium liquide.
Croissance monocristalline : Ensuite, le silicium liquide fondu est transformé en silicium monocristallin par une technologie de semi-conducteurs telle que la méthode Czochralski ou la méthode de fusion de zone.
Découpe de lingots de silicium : le silicium monocristallin développé est découpé en tranches de silicium d'une épaisseur d'environ 0,5-1 mm.
Polissage : Enfin, les plaquettes de silicium subissent un processus de polissage de précision pour obtenir une surface lisse qui répond aux besoins des applications de qualité électronique.